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电解抛光（ Electrolytic Polishing）原理现在世界各界人士争论很多，被大家公认的主要为黏膜理论。该理论主要为：工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面，这种黏膜在凸起处较薄，凹处较厚，因凸起处电流密度高而溶解快，随黏膜流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平的过程。
工件作为阳极接直流电源的正极。用铅﹑不锈钢等耐电解液腐蚀的导电材料作为阴极﹐接直流电源的负极。两者相距一定距离浸入电解液(一般以﹑磷酸为基本成分)中﹐在一定温度﹑电压和电流密度(一般低于1安/厘米2 )下﹐通电一定时间(一般为几十秒到几分)﹐工件表面上的微小凸起部分便首先溶解﹐而逐渐变成平滑光亮的表面。
[电解抛光详询]
电解抛光的特点是﹕①抛光的表面不会产生变质层﹐无附加应力﹐并可去除或减小原有的应力层﹔②对难于用机械抛光的硬质材料﹑软质材料以及薄壁﹑形状复杂﹑细小的零件和制品都能加工﹔③抛光时间短﹐而且可以多件同时抛光﹐生产效率高﹔④电解抛光所能达到的表面粗糙度与原始表面粗糙度有关﹐一般可提高两级。但由于电解液的通用性差﹐使用寿命短和强腐蚀性等缺点﹐电解抛光的应用范围受到限制。电解抛光主要用于表面粗糙度小的金属制品和零件﹐如反射镜﹑不锈钢餐具﹑装饰品﹑注射针﹑弹簧﹑叶片和不锈钢管等﹐还可用于某些模具(如胶木模和玻璃模等)和金相磨片的抛光。
本文中提到的不锈钢可被认为是合金中不生锈低含铬量13%的不锈钢。更为常见的不锈钢含铬量大于17%，同时加入镍和钼。显微组织可以是铁素体、奥氏体或双相组织。
在要求纯净度极高的系统中越来越多地使用的是奥氏体铬-镍-钼钢，表面处理对于可达到的操作结果是至关重要的。电解抛光被证明是能满足这些要求的一种和经济的操作工艺。2 纯净度标准
适合在高纯净度要求的系统中使用的表面取决于两个性质：
?表面本身不应当将任何物质转移到接触介质。
?不应当有外部杂质粘附到表面，表面也不能与周围的介质产生催化反应。
个性质称为表面纯净的‘内因’，第二个性质称为‘外因’。
表面内部纯净主要是由耐腐蚀性、材料微粒析出性能和扩散性能决定的。对于耐腐蚀的钢，这些性能很大程度上决定于表面下层材料的状况，通过电解抛光可对它们产生影响，并得到显著提高。
对于外部纯净度，不锈钢表面的粘附和清洁性能，同样还有它们的钝化性以及催化行为主要是由表面的能量状态和显微结构决定的。通过电解抛光可很大程度地直接影响这两种性能。
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