底纹没用三个方面的力，一是电化铝从基膜层剥离时产生的剥离力，二是电化铝连结料折射率必须条件：。颜料光学膜的光学厚度必须条件是介质厚度。即单层薄膜的光学厚度为人射光;的奇数倍。膜层材料的折射率应在。和之间，等于。然而实际上这兩个条件很难，內为很难这样的材料。采用多层髙折射介质膜就可以解决上巧题。由式：-可知，要膜层材料的折射率：要基层材料的折射率。多层镀膜就是在基底上先铍一层髙折射率的膜，称为膜，然后再镀一层低射率的膜，称为膜，如此间隔地镀膜-，后镀一层膜，这样就多层复合膜。働-所示。同样每层膜的光都是人射光波的奇数倍，且和,化应枏差较大，如膜弓膜可用,根问样原理，乙膜与胰排列顺反就可以产生与增透膜效果不一样的多层增反膜，这两种复合膜都可以随着视角变化产生奇妙的效果。如果事先在底基上覆盖一层高分子，这种材料至少可以溶于一种溶辆中，例如树脂可溶于。在这种材料匕通过真空镀膜，在严格控制下

与承

在同一载体上形成。材料是以分子或原子的形式被蒸发到载体上，为保证膜层的均匀性和致密性，必须严格控制蒸发速率的一致性而为了控制膜系的颜色指标，必须将膜层厚度的误差控制在入-川-的菹围内。膜系设计在光潸要求的前提下，膜层数应尽可能少，以生产成本。目，较的光干涉颜料膜系为层对称式结构，胰系厚度在左右中间是不透叨的反层可视作上下两部干涉层的共用基底，两边是对称的无色介质层和半金属使膜片上下两面都具有问样的千涉色。改变介质层的厚度，就能改变膜系的颜色各种颜色的光干涉颜料。由于膜系在高真空下制成使用的全是无色或的无机料，所以光干涉颜料性能，结构致密，不会退色，耐候怍极强，抗夹性好，可按墨对粒径的要求任意粉碎胁，力滅用化学包梗的来制取的于涉前上还有利用大然母片和，底纹没用片：色：;:;特性都元法同光干涉『飾也有糊液晶片,性制糊千涉颜料。但，